5.3.16. 面上分布ソース

s-type=26のソースタイプです。特定の面から発生するソースを定義します。 面線源では線源の発生位置での面の法線をz軸として、角度分布は既存の定義が使えます。 定義に必要なパラメータを以下に示します。 パラメータの順序は自由です。 (D=***) のあるものは、省略可能です。

表 5.3.165 suf

説明

粒子を発生させる面番号。 [surface] セクションで定義した面番号で指定します。 指定できる面の種類は PX, PY, PZ, SO, S, SX, SY, SZ, C/X, C/Y, C/Z, CX, CY, CZ で,2つ以上の面は指定できません。

表 5.3.166 cut

説明

粒子を発生する面上の領域を制限します。 [surface] セクションで定義した面番号に符号を付けて指定します。 複数の面番号を指定することができますが、球や円柱は合わせて1つしか定義す ることができません。 面番号の符号は、 [cell] セクションで領域を定義する時と同様の意味を持 ちます。 ただし、 :() は使えません。 例えば cut = 1 -2 3 -4 であれば、面1及び3のプラスもしくは外側かつ面 2及び4のマイナスもしくは内側で囲まれる領域を指定することになります。 また、指定した領域が閉じられていない場合はエラーとなります。 例えば、 scx などで外側を指定した場合は、必ず、 px,py,pz を使って閉じた領域を設定する必要があります。

表 5.3.167 dir

説明

(D=1.0)

線源の発生位置での面の法線からの方向余弦。 all を指定した時は、等方分布。 data を指定した時は、 a-type サブセクションが必要。

表 5.3.168 phi

説明

(D= all)

入射粒子の方位角[degree]。 = all; 0から360の範囲でランダムに決定。

表 5.3.169 dom

説明

(D=0.0)

入射粒子方向の立体角範囲[degree]。 = \(-1\) ; \(\cos^2\) のbiasがかかった分布。

表 5.3.170 e0

説明

(初期値無し)

(単色の場合)入射粒子のエネルギー[MeV/n]。これとe-typeのどちらかの指定が必要。

表 5.3.171 e-type

説明

(初期値無し)

(分布をもつ場合)入射粒子のエネルギー[MeV/n]。これとe0のどちらかの指定が必要。

sufcut で指定する面番号を[surface]セクションで定義する際、 trcl は使用できません。 [source]セクションで指定した trcl は有効です。